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9纳米光刻重要突破,国产超衍射极限光刻制造的重大创新

[2019-04-19 06:02:00] 来源: 编辑: 点击量:
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导读:芯片芯片由集成电路经过设计、制造、封装等一系列操作后形成,一般来说,集成电路更着重电路的设计和布局布线,而芯片更看重电路的集成、生产和封装这三大环节。但在日常生活中,“

芯片

芯片由集成电路经过设计、制造、封装等一系列操作后形成,一般来说,集成电路更着重电路的设计和布局布线,而芯片更看重电路的集成、生产和封装这三大环节。但在日常生活中,“集成电路”和“芯片”两者常被当作同一概念使用。

光刻

一般情况下,人们将芯片的研制分为设计、生产以及封装三个阶段,而在这三个阶段中,前两个解决占据着最为重要的作用。而以现在我们国家的芯片研制情况来看的话,我们主要的困难是在生产方面,说白了,高端芯片我们已经有了设计能力,但是还不能够制造出来!

光刻

这就有点尴尬了,能设计而不能生产制造,这让无数国人为之焦心。而这更为关键的一点则是因为芯片生产中的关键设备:光刻机!

光刻

现在为了在高端光刻机上获得突破,多家科研单位和企业都在这方面投入了巨大的人力、物力,虽然还没有觉得决定性胜利的成果,但是所取得的积极进展还是很多的,比如,武汉光电国家研究中心就在9nm光刻制造的重大创新。

光刻

据悉,光刻技术上现在面临的困境就是光束衍射极限的限制,而由甘棕松教授率领的团队利用二束激光在团队自己研制研的光刻胶上成功打破了这个限制,并利用远场光学的方法,成功光刻出了9纳米线宽的线段,成功实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重要突破性创新。

光刻

现在我们的半导体企业已经在14纳米制程工艺上获得了重要突破,接下来就是10纳米,7纳米的研制工作了,虽然和世界上最高端的光刻工艺5纳米工艺还有非常大的差距,但是勤劳而智慧的中国人也一定会在不远的将来获得突破的,中国人,相信自己,支持自己!

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